武汉双年展作品介绍
方力钧
参展作品 & 简介
▲《2018》163x122cm,木刻版画,2018年
方力钧学版画出身,他一直期望在版画上有所突破,版画尤其木刻,历来适合制作小品,诸如书籍插图之类。而方力钧的版画追求完整的独幅创作,以及尺幅的巨大和视觉冲击力。巨大而能持刀法的流畅自如,是方力钧木刻版画的技术难题,也是方力钧在版画制作上的贡献。他使用工业电锯等工具,因此刀法显得格外锋利、强悍、霸道和气派,迥异于传统木刻刀的细腻和纤巧,而具有一种工业工具般的力度,正是这种工业工具带给作品刀法的力度。使他的版画系列作品,迥异于油画无笔触感——使形象突出而不是油画味道的突出,迥异于水墨画的非笔墨性特性——淡然浪漫中的无奈,而方力钧的版画则把他体验到的人生无奈无助表现得更强烈,也是方力钧作品中较少有的悲怆感觉。
丁鸿丹
参展作品 & 简介
▲《夜》240×160cm,布面油画,2022年
▲《午后》150×150cm,布面油画,2022年
我以图像思维来制作绘画。图像来源于手机拍摄的日常生活影像。用手机摄影可以一瞬间获得大量同一场景的图像。我会挑选其中一部分奇异的图像,将记忆中的现实和想象并置,通过绘画同自己所处的时空建立对话。
作者介绍:
1995年生于广州,毕业于中央美术学院油画系第三工作室,于2018年获得学士学位、2021年获得硕士学位。目前于中央美术学院攻读博士学位,师从刘小东教授。她的创作实践以绘画为主,不拘于某种风格或语法。通过不断打破与重构原本的图像,将现实和想象并置,使画面产生不合时宜、幽默的视觉感受。
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